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如何通過等離子材料表面處理設(shè)備進行清洗?

更新時間:2019-09-23      點擊次數(shù):1499
  表面處理是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。 等離子體是常用的一種材料。
  達因特等離子材料表面處理設(shè)備進行各種材料表面處理,處理速度和處理寬度 是多少,等離子表面處理設(shè)備噴嘴的處理寬度為約30-12 毫米,較之于活化工藝,清洗速度可達每秒幾毫米.
  在常壓等離子體技術(shù)中,氣體在常壓下借助高電壓被激發(fā),并點燃等離子體。借助壓縮空氣從噴嘴中將等離子體噴出。共分為兩種等離子效應(yīng):等離子表面處理設(shè)備是通過等離子射流中所含的活性粒子進行活化和精密清洗。此外,借助經(jīng)壓縮空氣加速的活性射流可以去除表面散落的、附著性顆粒。改變諸如處理速度和至基材表面的距離之類的工藝參數(shù),會對處理結(jié)果造成不同程度的影響。
  等離子體-表面技術(shù)的一項重要工藝便是等離子清洗。通過與電離氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以及經(jīng)壓縮空氣加速的活性氣體射流,將污物顆粒除去,轉(zhuǎn)換為氣相,并通過真空泵用連續(xù)氣體流將其排出。由此所獲得的純度等級較高。在發(fā)生氧化銅還原反應(yīng)時,氧化銅與氫氣的混合氣體-等離子體接觸,氧化物會發(fā)生化學(xué)還原反應(yīng),并生成水蒸汽。該氣體混合物中含有 Ar/H2 或者 N2/H2,所含的 H2 大含量低于 5%。對于常壓等離子體而言,其發(fā)揮作用的時候具有*的氣體消耗量。
  等離子材料表面處理設(shè)備進行處理能夠為我們帶來哪些主要優(yōu)勢?技術(shù)適用于在線工藝,例如,在對連續(xù)型型材、管件進行包護、膠粘,粘結(jié)或者涂層之前進行等離子清洗。該項技術(shù)適合用于機器人,也就是說,借助機器人可用等離子射流對 表面進行掃描。通過 等離子表面處理設(shè)備可以進行局部的表面清洗,不會接觸其余表面部分,例如,在焊線(引線焊接)前對 Al, Au 和 Cu 材質(zhì)的焊盤進行清洗,無需接觸表面的其余部分。
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